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第992页(第1页)

苏姿丰、胡煜华、孟婉舟这些逻辑的上将,即便半步踏入轮值董事会,也没有资格第一时间参观,消息还封锁在最高统帅部一级。

“陆总。”

梁孟松、尹志尧等人喊了一声。

“走吧。”

陆飞换好装备,穿过走廊,墙壁上挂着华夏第一枚原子弹跟氢弹的当天报纸和照片。

头顶,悬挂着一条条横幅,都是激励士气的口号语,其中最显眼的莫过于——

“搞出光刻机,挺直腰杆子!”

“陆总,这就是我们自主研发的65narf干式光刻机,由逻辑、沪市微电子、长春光机、华为等多家单位、上千家供应商联合攻克,下一步就是预生产,在生产中不断改进完善,然后逐步实现量产化。”

孙红军兴奋至极,“预计一到两年,就能全部替代掉asl和尼康的65n光刻机。”

“还是自己的机器香啊!”

陆飞透过玻璃,看着工作人员有条不紊地操作,余光里注意到尹志尧等人的情绪很不对劲,“这么难得的好日子,你们怎么看上去不是很高兴啊,难道是光刻机还有什么质量上的问题,或者技术上的缺陷?”

“陆总,设备没有问题,技术也没有问题,就是……就是有一个坏消息……”

尹志尧一脸为难。

“什么坏消息?”

陆飞鼓励道:“没关系,说出来,不说出来,我们又怎么想办法解决呢?”

“陆总,asl研发出了全球第一台euv光刻机,已经送到三星的研究机构预生产。”

尹志尧无奈地叹了口气。

“你看你,又急。”

陆飞挑了挑眉,倍感意外,这么凑巧!

euv光刻机的出现,相当于光刻机技术和设备正式发展到第五代,遥遥领先于他们。

第一代光刻机是以436n的g-le汞灯光源为主,只适用于5μ以上制程。

之后出现了365n的i-le汞灯光源的第二代光刻机,制程精度来到了350到500n。

这两代都只能算是接近式光刻机,到了第三代扫描投影式光刻机,才实现了跨越式的突破,把最小工艺推进至150到250n。

他们生产的65narf干式光刻机,算是第四代,也就是步进式投影式光刻机,制程工艺最高可以推进到65n,想要更上一层——

就得用到浸入技术,也就是让镜头和硅片之间的空间浸泡于液体之中,在此基础上,就有了四代半的浸入步进式投影式光刻机。

本来,逻辑跟asl这些国际一线的光刻机厂商,就只剩arfi这么个半代差距。

但euv光刻机一出现,又把这个差距拉到了至少15代,而且这个技术差距,不像制程工艺那么好追,是整个产业链的全面落后。

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